Silicon Wafer Device Base

Silicon Wafer Device Base

Vores førsteklasses siliciumwaferenhedsbase er omhyggeligt konstrueret til at give et høj-stabilitetsgrundlag for avanceret halvlederfremstilling. Specielt optimeret til 200 mm og 300 mm fremstillingslinjer sikrer dette substrat optimal termisk og elektrisk ydeevne under produktion af komplekse elektroniske enheder.

Ved at udnytte avanceret krystalvækst og præcisionspoleringsteknologier understøtter vores enhedsbase sofistikerede materialebehandlingsteknikker, herunder høj-vakuumaflejring og følsom litografi. Vi opretholder en streng kvalitetskontrol for at garantere et output af høj-kvalitet med minimal defekttæthed og overlegen overfladeflade (Low TTV).

Designet udelukkende til halvleder--kvalitetsapplikationer-såsom Integrated Circuits (IC), Power Devices og MEMS-dette substrat er velegnet til både stor-støberiproduktion og specialiserede high-forskningsapplikationer.

Populære tags: silicium wafer enhed base, Kina silicium wafer enhed base producenter, leverandører, fabrik